空气净化设备分为两大类,医院净化工程公司,除了常用的过滤式空气净化设备,净化工程,还有静电除尘器空气净化设备,那么,相比我们所熟悉的过滤式净化设备,静电除尘式净化设备有什么优点和劣势呢?静电除尘式净化设备工作原理:利用高压静电吸附的原理去除空气中的微粒污染物,实验室净化工程,如灰尘、煤、花粉味和厨房油等;同时还可有效吸附空气中的气态污染物及滤除空气中的致病微小生物。静电除尘式净化技术的缺点是容易产生臭氧,GMP车间净化工程,而且只对颗粒物等大粒子气体有效果,主要用于除尘,而对于去除甲醛苯等**物几乎没有效果
洁净室中的温湿度控制
北京恢宏美蓝通风净化科技有限公司自成立以来专注于微污染控制.始终坚持为客户提供专业的净化设备与洁净方案为使命。致力于为各领域客户提供好的空气技术净化解决方案。主营范围:实验室净化工程、GMP车间、无菌室、手术室、防静电实验室、恒温恒湿实验室、千级实验室、百级实验室等。
净化工程净化工程
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜**过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度**过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。
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